化学蚀刻助力半导体产线

洁华云坚持社会责任感及可持续发展的理念，积极与上下游客户，高校，研究所合作，作为多项专利的持有者，国标起草单位之一，我们开发了多项技术，并拥有专业的技术服务顾问，提供1对1的赋能化定制和联合开发，助力半导体产线的技术突破。

大国重器之秘密武器   电路的图形部分上预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉，称为蚀刻。蚀刻的质量要求是能够将除抗蚀层下面以外的所有铜层完全去除干净。 蚀刻技术是仅次于光刻技术的半导体制造核心工艺。 从市场方面来看，目前全球蚀刻液生产主要集中在欧美、日、韩、中国等，其中欧美企业占据全球30％以上的市场份额；日本占据全球26％左右的份额；韩国加中国的总占比达到40％总占比达到40％。     发现以下解决方案

洁华云电子级的过一硫酸氢钾表现出色

湿法PCB蚀刻分酸性和碱性：

• 酸性方法更精确，更便宜但更耗时，这种方法适用于内层，因为酸不会与光刻胶发生反应，也不会损坏所需的部分。
• 碱性方法用于蚀刻 PCB 的外层，碱性方法是一个快速的过程，价格贵，且必须认真遵循此过程的参数，因为如果长时间接触到溶剂会破坏电路板。

对于印刷布线、电路板的微蚀刻和清洁，现有的蚀刻液大多采用过氧化氢或者过硫酸钠作为氧化物，去除多余石墨，碳黑和金属等杂质，过氧化氢将金属氧化后，再将其部分分解，然后转化成可溶的化合物。例如，基于过硫酸钠的产物可以与足够的硫酸结合，制成一个微观浴，其中每一升去离子水中含有100-300克过硫酸钠，约有1％至10％的硫酸重量比含量。但是现如今，技术人员发现过一硫酸氢钾可以作为一个非常好的替代品，因为它同时含有必需的氧化剂和硫酸。

*我们公司提供电子级的过一硫酸氢钾为全球优秀的电子蚀刻剂，产品出口多个国家和地区，详情请咨询您的赋能专家。

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